甩膠機(jī)又被稱為“勻膠機(jī)”，其工作原理就是利用旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力原理，將膠液均勻甩開(kāi)，平鋪到材料表面的一種機(jī)械裝置。常見(jiàn)于各類對(duì)于材料表面涂覆的均勻性有嚴(yán)格要求的實(shí)驗(yàn)或者制造領(lǐng)域，例如半導(dǎo)體材料研發(fā)和制備工藝，生物材料物性分析，化工材料薄膜的制備工藝等等。
甩膠機(jī)的機(jī)械裝置通過(guò)程序調(diào)控旋轉(zhuǎn)速度以此來(lái)改變離心力大小，并通過(guò)滴膠裝置控制膠液的流量，來(lái)達(dá)到制備薄膜所需的厚度，另外薄膜厚度也取決膠液的粘度，涂覆的溫度和濕度等環(huán)境因素。
該設(shè)備廣泛應(yīng)用于MEMS微加工，它可以用來(lái)制備厚度小于10 納米薄膜。也常應(yīng)用在約1 微米厚光刻膠沉積層的光刻工藝中。注：光刻膠剝離轉(zhuǎn)速通常需要是以每秒20至80轉(zhuǎn)的速度旋轉(zhuǎn)30到60秒才可以。
設(shè)備通過(guò)調(diào)控出不同的旋轉(zhuǎn)速度，使得膠液能夠散開(kāi)達(dá)到基底材料的邊緣，并達(dá)到預(yù)定的厚度。所采用的膠液常常是易揮發(fā)的，同時(shí)也有可能被蒸發(fā)掉，因此，旋涂速度越高，所得到的薄膜越薄，當(dāng)然薄膜的厚度也取決于這種膠液和其比兌的試劑混合后的粘度和濃度等因素。